ＰＥＣＶＤ

plasma-enhanced chemical-vapor deposition

プラズマ促進化学蒸着.
ｐｌａｓｍａ-ｅｎｈａｎｃｅｄ ｃｈｅｍｉｃａｌ-ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ; ｅ.ｇ. ｆｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｏｆ ｓｉｌｉｃｏｎ ｎｉｔｒｉｄｅ(Ｓｉ3Ｎ4) ｏｎ ａ ＧａＡｓ ｃｒｙｓｔａｌ; ｒｅｆ. ＲＩＥ(ｒｅａｃｔｉｖｅ ｉｏｎ ｅｔｃｈｉｎｇ);
[Ｃ:Ｃｈｅｍ:Ｉｎｄ:Ｍａｔ].

丸善 「略語大辞典」 JLogosID : 11855424