ＴＣＰ

transformer coupled plasma (etch technology)

トランス結合プラズマ(エッチング装置). 半導体ウェーハーのエッチング技術または装置.
ｔｒａｎｓｆｏｒｍｅｒ ｃｏｕｐｌｅｄ ｐｌａｓｍａ (ｅｔｃｈ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ); ａ ｌｏｗ-ｐｒｅｓｓｕｒｅ, ｈｉｇｈ-ｄｅｎｓｉｔｙ ｅｔｃｈｉｎｇ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ; ｕｓｅｄ ｆｏｒ ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ ｄｅｖｉｃｅ ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ; ｅｎａｂｌｅｓ ｐｒｅｃｉｓｅ ｅｔｃｈｉｎｇ ｃｏｎｔｒｏｌ ｉｎ ｔｈｅ 0.25 ?ｍ ｒｅｇｉｍｅ;
[Ｉｎｄ:Ｃｈｅｍ:Ｃ]

丸善 「略語大辞典」 JLogosID : 11851551