ＳＩＭＯＸ

separation by implanted oxygen; a form

酸素注入シリコン(回路分離). 絶縁体上シリコン構造の製造方法. 酸化シリコン層をシリコン基板の表面近くに埋めこむ技術.
ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ ｂｙ ｉｍｐｌａｎｔｅｄ ｏｘｙｇｅｎ; ａ ｆｏｒｍ ｏｆ ｏｘｙｇｅｎ-ｉｍｐｌａｎｔｅｄ ｓｉｌｉｃｏｎ ｏｎ ｗｈｉｃｈ ｕｌｔｒａｔｈｉｎ ｌａｙｅｒｓ ｏｆ ｓｉｌｉｃｏｎ ｃａｎ ｂｅ ｇｒｏｗｎ; ａ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ ｆｏｒ ＳＯＩ(ｓｉｌｉｃｏｎ-ｏｎ-ｉｎｓｕｌａｔｏｒ)ｗａｆｅｒ ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ; ｅ.ｇ. ＳＩＭＯＸ ｗａ

丸善 「略語大辞典」 JLogosID : 11859588