ＢＩＭ

binary intensity mask

二値強度マスク. 半導体集積回路のパターン露光用マスクの型式.
ｂｉｎａｒｙ ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ ｍａｓｋ; ａ ｔｙｐｅ ｏｆ ｍａｓｋ ｕｓｅｄ ｉｎ ｐａｔｔｅｒｎ ｅｘｐｏｓｕｒｅ ｏｆ ＩＣ(ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ ｃｉｒｃｕｉｔ); ｒｅｆ. ＡＰＳＭ(ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ ｐｈａｓｅ ｓｈｉｆｔｉｎｇ ｍａｓｋ),ｒｉｍ ＰＳＭ(ｐｈａｓｅ ｓｈｉｆｔｉｎｇ ｍａｓｋ);
[Ｃ:Ｏｐｔ:Ｉｎｄ].

丸善 「略語大辞典」 JLogosID : 11867432