ＣＡＩＢＥ

chemically assisted ion beam etching

化学反応併用イオンビーム エッチング. 半導体の加工技術.
ｃｈｅｍｉｃａｌｌｙ ａｓｓｉｓｔｅｄ ｉｏｎ ｂｅａｍ ｅｔｃｈｉｎｇ; ａｔｅｃｈｎｉｑｕｅ ｉｎ ｗｈｉｃｈ ａ ｓａｍｐｌｅ (ｅ.ｇ. ＩｎＧａＡｓ) ｉｓ ｓｉｍｕｌｔａｎｅｏｕｓｌｙ ｓｕｂｊｅｃｔｅｄ ｔｏ ｂｏｔｈ ａｎ ｉｏｎ ｂｅａｍ ａｎｄ ａ ｒｅａｃｔｉｖｅ ｇａｓ ｆｌｕｘ; ｄｅｍｏｎｓｔｒａｔｅｄ ｔｏ ｂｅ ａｎ ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ ｐａｔｔｅｒｎ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｍｅｔｈｏｄ;
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丸善 「略語大辞典」 JLogosID : 11868316