ＳＷＡＭＩ

sidewall masked isolation (technique);

側壁マスク分離(法). シリコン結晶の処理方法. 集積回路の製造方法.
ｓｉｄｅｗａｌｌ ｍａｓｋｅｄ ｉｓｏｌａｔｉｏｎ (ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ); ａ ｓｉｌｉｃｏｎ ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ; ｒｅｑｕｉｒｅｓ ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ ｓｉｌｉｃｏｎ ｅｔｃｈｉｎｇ, Ｓｉ3Ｎ4 ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ, ａｎｄ ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｓｉ3Ｎ4 ｅｔｃｈｉｎｇ; ｒｅｆ. ＬＯＣＯＳ(ｌｏｃａｌ ｏｘｉｄａｔｉｏｎ ｏｆ ｓｉｌｉｃｏｎ);
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丸善 「略語大辞典」 JLogosID : 11851043