ＰＡＧ

photoacid generator

光酸発生成分. フォトレジストの溶媒.
ｐｈｏｔｏａｃｉｄ ｇｅｎｅｒａｔｏｒ; ｅ.ｇ. ａ ｃａｓｔｉｎｇ ｓｏｌｖｅｎｔ ｆｏｒ ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ ｗｉｔｈ ＰＧＭＥＡ(ｐｒｏｐｙｌｅｎｅｇｌｙｃｏｌｍｅｔｈｙｌｅｔｈｅｒ-ａｃｅｔａｔｅ);
[Ｃｈｅｍ:Ｏｐｔ:Ｉｎｄ].

丸善 「略語大辞典」 JLogosID : 11854730