Ｅ-Ｄ

exposure-defocus (window)

露光-結像劣化(特性). 集積回路製造で使用する位相シフト マスクの特性評価法.
ｅｘｐｏｓｕｒｅ-ｄｅｆｏｃｕｓ (ｗｉｎｄｏｗ); ａ ｍｅｔｈｏｄｏｌｏｇｙ ｔｏ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚｅ ａｎ ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ ＰＳＭ(ｐｈａｓｅ ｓｈｉｆｔｉｎｇ ｍａｓｋ) ｗｈｉｃｈ ｉｓ ｕｓｅｄ ｉｎ ＩＣ(ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ ｃｉｒｃｕｉｔ) ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ;
[Ｏｐｔ:Ｃ:Ｉｎｄ].

丸善 「略語大辞典」 JLogosID : 11873198