ＬＡＤ

laser-assisted disordering

レーザー応用不整法. 半導体レーザーの製造プロセスの一つ.
ｌａｓｅｒ-ａｓｓｉｓｔｅｄ ｄｉｓｏｒｄｅｒｉｎｇ; ａｎ ＩＩＬＤ(ｉｍｐｕｒｉｔｙ-ｉｎｄｕｃｅｄ ｌａｙｅｒ ｄｉｓｏｒｄｅｒｉｎｇ); ａ ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ｂｕｒｉｅｄ ｈｅｔｅｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ ｌａｓｅｒｓ; ｅ.ｇ. Ｓｉ ＩＩＬＤ; ｒｅｆ. ＲＴＡ(ｒａｐｉｄ ｔｈｅｒｍａｌ ａｎｎｅａｌｉｎｇ);
[Ｌ:Ｍａｔ:Ｉｎｄ].

丸善 「略語大辞典」 JLogosID : 11880159