ＬＰ ＭＯＣＶＤ

low pressure metalorganic chemical vapor deposition

低圧有機金属化学蒸着(法). 半導体結晶の成長法.
ｌｏｗ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｍｅｔａｌｏｒｇａｎｉｃ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ; ａ ｃｒｙｓｔａｌ ｇｒｏｗｔｈ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ; ｅ.ｇ. ａｄａｐｔｅｄ ｔｏ ｔｈｅ ｇｒｏｗｔｈ ｏｆ ＧａＡｓ/ＧａＩｎＰ ｃｒｙｓｔａｌｓ;
[Ｏｐｔ:Ｃ:Ｌ:Ｉｎｄ].

丸善 「略語大辞典」 JLogosID : 11880986